NEW SELECTIVE DEPOSITION TECHNOLOGY BY ELECTRON-BEAM INDUCED SURFACE-REACTION

被引：20

作者：

MATSUI, S

MORI, K

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1984年 / 23卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.23.L706

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：L706 / L708

页数：3

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共 2 条

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