SOLUBILITY OF FLAWS IN HEAVILY-DOPED SEMICONDUCTORS

被引:126
作者
SHOCKLEY, W
MOLL, JL
机构
来源
PHYSICAL REVIEW | 1960年 / 119卷 / 05期
关键词
D O I
10.1103/PhysRev.119.1480
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页码:1480 / 1482
页数:3
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