EVALUATION OF ELECTRON INJECTION CURRENT-DENSITY IN P-LAYERS FOR INJECTION MODELING OF I2L

被引：20

作者：

HEIMEIER, HH ^{[1
]}

BERGER, HH ^{[1
]}

机构：

[1] IBM LABS,BOEBUNGEN,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/JSSC.1977.1050872

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：205 / 206

页数：2

共 8 条

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