METAL-INSULATOR TRANSITIONS IN PURE AND DOPED V2O3

被引:430
作者
MCWHAN, DB [1 ]
MENTH, A [1 ]
REMEIKA, JP [1 ]
BRINKMAN, WF [1 ]
RICE, TM [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS,MURRAY HILL,NJ 07974
来源
PHYSICAL REVIEW B | 1973年 / 7卷 / 05期
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.7.1920
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:1920 / 1931
页数:12
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