APPLICABILITY OF SILVER IMPLANTED AMORPHOUS GESE2 AS INORGANIC NEGATIVE RESIST

被引：2

作者：

KLUGE, G ^{[1
]}

THOMAS, A ^{[1
]}

KLABES, R ^{[1
]}

SUPTITZ, P ^{[1
]}

机构：

[1] ACAD SCI GDR,ZENT INST KERNFORSCH,DDR-8051 DRESDEN,GER DEM REP

来源：

PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1989年 / 113卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1002/pssa.2211130256

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：K171 / K175

页数：5

共 5 条

[1]

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