ELECTRICAL-PROPERTIES OF SI-N FILMS DEPOSITED ON SILICON FROM REACTIVE PLASMA

被引：86

作者：

SINHA, AK

SMITH, TE

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1978年 / 49卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1063/1.325200

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：2756 / 2760

页数：5

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共 12 条

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