THIN-FILM FORMATION OF RHODIUM SILICIDES

被引:41
作者
PETERSSON, S [1 ]
ANDERSON, R [1 ]
BAGLIN, J [1 ]
DEMPSEY, J [1 ]
HAMMER, W [1 ]
DHEURLE, F [1 ]
LAPLACA, S [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1063/1.327381
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:373 / 382
页数:10
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