HYDROGEN CONTENT OF PLASMA-DEPOSITED SILICON-NITRIDE

被引：726

作者：

LANFORD, WA ^{[1
]}

RAND, MJ ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,ALLENTOWN,PA 18103

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.325095

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2473 / 2477

页数：5

共 7 条

BRODSKY, MH ;

FRISCH, MA ;

ZIEGLER, JF ;

LANFORD, WA .

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