CHARACTERIZATION OF FILMS FORMED BY PYROLYSIS OF BORAZINE

被引：53

作者：

ADAMS, AC

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2127639

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1378 / 1379

页数：2

共 7 条

[1] CHEMICAL-DEPOSITION OF BORON-NITROGEN FILMS [J].

ADAMS, AC ;

CAPIO, CD .

[2]

BAGLEY BG, UNPUBLISHED

[3]

HONSTEDT LF, 1961, ADV CHEM SER, V32, P232

HOUGH, WV ;

SCHAEFFER, GW ;

DZURUS, M ;

STEWART, AC .

LAUBENGAYER, A ;

PORTER, RF ;

MOEWS, PC .

[6] BORON-NITRIDE MASK STRUCTURE FOR X-RAY-LITHOGRAPHY [J].

MAYDAN, D ;

COQUIN, GA ;

LEVINSTEIN, HJ ;

SINHA, AK ;

WANG, DNK .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1959-1961

[7]

PIERSON HO, 1979, 7TH P INT C CHEM VAP, P360