BORON-NITRIDE MASK STRUCTURE FOR X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：33

作者：

MAYDAN, D

COQUIN, GA

LEVINSTEIN, HJ

SINHA, AK

WANG, DNK

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1979年 / 16卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.570365

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1959 / 1961

页数：3

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共 4 条

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1978, 15 (03) :960-964