OXIDATION BEHAVIOR OF AU-SI FILMS

被引：13

作者：

HEWETT, CA

LAU, SS

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.98057

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：827 / 829

页数：3

共 7 条

BARTUR, M ;

NICOLET, MA .

[2]

Cros A., 1980, J PHYS C SOLID STATE, V41, P795

[3]

HEWETT CA, 1985, P MATERIALS RES SOC, V40, P329

HIRAKI, A ;

MAYER, JW ;

LUGUJJO, E .

[5]

Hiraki A., 1977, PROGR STUDY POINT DE, P393

[6] STATE OF SI AND SN IN GLASSY AU ALLOYS [J].

HUBER, E ;

VONALLMEN, M .

PHYSICAL REVIEW B, 1985, 31 (06) :3338-3342

[7]

Murarka S. P., 1983, SILICIDES VLSI APPL, V1, P5