MODIFICATIONS IN OPTOELECTRONIC BEHAVIOR OF PLASMA-DEPOSITED AMORPHOUS-SEMICONDUCTOR ALLOYS VIA IMPURITY INCORPORATION

被引:61
作者
GRIFFITH, RW
KAMPAS, FJ
VANIER, PE
HIRSCH, MD
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(80)90626-2
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
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页数:6
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