ACCELERATION OF PLASMA ETCH RATE CAUSED BY ALKALINE RESIDUES

被引:18
作者
MAKINO, T
NAKAMURA, H
ASANO, M
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2127347
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
引用
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页码:103 / 106
页数:4
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共 15 条
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MAKINO T, UNPUBLISHED
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