INTERNAL-STRESSES IN AMORPHOUS-SILICON FILMS DEPOSITED BY CYLINDRICAL MAGNETRON SPUTTERING USING NE, AR, KR, XE, AND AR+H2

被引:76
作者
THORNTON, JA [1 ]
HOFFMAN, DW [1 ]
机构
[1] FORD MOTOR CO, DEARBORN, MI 48121 USA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.570724
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:203 / 207
页数:5
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