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POROUS STRUCTURE OF SIO2-FILMS SYNTHESIZED AT LOW-TEMPERATURE AND PRESSURE
被引:40
作者
:
BAKLANOV, MR
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BAKLANOV, MR
VASILYEVA, LL
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VASILYEVA, LL
GAVRILOVA, TA
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GAVRILOVA, TA
DULTSEV, FN
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DULTSEV, FN
MOGILNIKOV, KP
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MOGILNIKOV, KP
NENASHEVA, LA
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NENASHEVA, LA
机构
:
来源
:
THIN SOLID FILMS
|
1989年
/ 171卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0040-6090(89)90032-1
中图分类号
:
T [工业技术];
学科分类号
:
08 ;
摘要
:
引用
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[11]
LOW-TEMPERATURE GROWTH OF SILICON DIOXIDE FILM BY PHOTO-CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
TARUI, Y
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AOTA, K
[J].
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS,
1984,
23
(11):
: L827
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