X-RAY-LITHOGRAPHY 2-STATE ALIGNMENT SYSTEM

被引：7

作者：

CHEN, G

CERRINA, F

WU, Z

机构：

[1] UNIV WISCONSIN,DEPT ELECT & COMP ENGN,MADISON,WI 53706

[2] INST OPT & ELECTR,CHENDU,PEOPLES R CHINA

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1989年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584664

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1995 / 1999

页数：5

共 6 条

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1988, 6 (06) :2135-2138

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KREUZER J, COMMUNICATION