SPECTROSCOPIC DIAGNOSTICS OF CF4-O2 PLASMAS DURING SI AND SIO2 ETCHING PROCESSES

被引:299
作者
DAGOSTINO, R
CRAMAROSSA, F
DEBENEDICTIS, S
FERRARO, G
机构
关键词
D O I
10.1063/1.329748
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1259 / 1265
页数:7
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