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1.0-1.6 MU-M PLANAR AVALANCHE PHOTO-DIODE BY LPE GROWN INP/INGAAS/INP DH STRUCTURE
被引:15
作者
:
SHIRAI, T
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SHIRAI, T
YAMAZAKI, S
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KANEDA, T
机构
:
来源
:
ELECTRONICS LETTERS
|
1982年
/ 18卷
/ 13期
关键词
:
D O I
:
10.1049/el:19820389
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
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[1]
TUNNELING CURRENT IN INGAAS AND OPTIMUM DESIGN FOR INGAAS-INP AVALANCHE PHOTO-DIODE
[J].
ANDO, H
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KANEDA, T
.
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1980,
19
(06)
:L277
-L280
[2]
FABRICATION OF COMPLETELY OH-FREE VAD FIBER
[J].
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1980,
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NAKAJIMA K, 1982, JPN J APPL PHYS, V21, P56
[4]
1.3 MU-M INP-INGAASP PLANAR AVALANCHE PHOTO-DIODES
[J].
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TUNNELING CURRENT IN INGAAS AND OPTIMUM DESIGN FOR INGAAS-INP AVALANCHE PHOTO-DIODE
[J].
ANDO, H
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1980,
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[2]
FABRICATION OF COMPLETELY OH-FREE VAD FIBER
[J].
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ELECTRONICS LETTERS,
1980,
16
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:699
-700
[3]
NAKAJIMA K, 1982, JPN J APPL PHYS, V21, P56
[4]
1.3 MU-M INP-INGAASP PLANAR AVALANCHE PHOTO-DIODES
[J].
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