STABILIZATION OF SPUTTERED BETA-TANTALUM BY A TANTALUM SILICIDE INTERLAYER

被引：9

作者：

HIEBER, K

LAUTENBACHER, E

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(80)90222-9

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：191 / 196

页数：6

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共 5 条

[1]

AXELROD NN, 1973, THIN SOLID FILMS, V15, P521

[2] FACTORS CONTROLLING STRUCTURE OF SPUTTERED TA FILMS [J].

FEINSTEIN, LG ;

HUTTEMANN, RD .

[3] UHV - DEPOSITED AMORPHOUS TANTALUM AND TANTALUM-NICKEL FILMS [J].

SCHAFER, A ;

MENZEL, G .

ELECTROCOMPONENT SCIENCE AND TECHNOLOGY, 1977, 4 (01) :29-35

[4]

WESTWOOD WD, 1975, TANTALUM THIN FILMS, P76

[5]

WITTMAACK K, 1974, 6TH P INT C EL ION B, P164