HIGH-RATE DEPOSITION OF TRANSPARENT CONDUCTING FILMS BY MODIFIED REACTIVE PLANAR MAGNETRON SPUTTERING OF CD2SN ALLOY

被引:41
作者
MANIV, S [1 ]
MINER, C [1 ]
WESTWOOD, WD [1 ]
机构
[1] BELL NO RES,OTTAWA K1Y 4H7,ONTARIO,CANADA
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1981年 / 18卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.570722
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:195 / 198
页数:4
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