MEASUREMENTS OF DEFECTS AND STRAIN IN SOS FILMS AFTER CW AR LASER ANNEALING IN THE LIQUID-PHASE REGIME

被引：10

作者：

GOLECKI, I

GLASS, HL

KINOSHITA, G

MAGEE, TJ

机构：

[1] ADV RES & APPLICAT CORP,SUNNYVALE,CA 94086

[2] CALTECH,PASADENA,CA 91125

来源：

APPLIED SURFACE SCIENCE | 1981年 / 9卷 / 1-4期

关键词：

D O I：

10.1016/0378-5963(81)90044-1

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

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页码：299 / 314

页数：16

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YAMAZAKI, K ;

YAMADA, M ;

YAMAMOTO, K ;

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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1981, 20 (05) :L371-L374