O+, O-2+, O-3+ AND O-4+ IONS IN AR-O-2 SPUTTERING DISCHARGES - COMMENTS

被引：5

作者：

AITA, CR

MARHIC, ME

机构：

[1] NORTHWESTERN UNIV,INST TECHNOL,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,EVANSTON,IL 60201

[2] UNIV WISCONSIN,SURFACE STUDIES LAB,MILWAUKEE,WI 53211

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(88)90255-2

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：37 / 38

页数：2

共 6 条

[1] (ARO)+ AND (ARO2)+ IONS IN RF SPUTTER DEPOSITION DISCHARGES [J].

AITA, CR ;

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