POSSIBILITIES AND LIMITATIONS OF STYLUS METHOD FOR THIN-FILM THICKNESS MEASUREMENTS

被引：8

作者：

ESCHBACH, HL ^{[1
]}

VERHEYEN, F ^{[1
]}

机构：

[1] EURATOM,CENT BUR NUCL MEASUREMENTS,GEEL,BELGIUM

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(74)90110-2

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：237 / 243

页数：7

共 5 条

[1]

SCHWARTZ N, 1961, VAC S T, V8, P836

SILVER, MD ;

CHOW, ETK .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1965, 2 (04) :203-&

[3]

WALKER ES, 1970, J CAN CERAM SOC, V39, P11

WATERHOU.N ;

WILCOX, PS ;

WILLMOTT, DJ .

[5] PHASE COMPOSITION AND CONDUCTIVITY OF SPUTTERED TANTALUM [J].

WESTWOOD, WD ;

LIVERMORE, FC .