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STRESS AND THERMAL-EXPANSION COEFFICIENT OF CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITED GLASS FILMS
被引:66
作者
:
SUNAMI, H
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SUNAMI, H
ITOH, Y
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ITOH, Y
SATO, K
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SATO, K
机构
:
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1970年
/ 41卷
/ 13期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.1658622
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:5115 / &
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共 12 条
[11]
THERMAL EXPANSION COEFFICIENT OF A PYROLITICALLY DEPOSITED SILICON NITRIDE FILM
[J].
TOKUYAMA, T
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TOKUYAMA, T
;
FUJII, Y
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FUJII, Y
;
SUGITA, Y
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SUGITA, Y
;
KISHINO, S
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KISHINO, S
.
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1967,
6
(10)
:1252
-&
[12]
1962, CORNING GLASS WORKS, P26
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共 12 条
[11]
THERMAL EXPANSION COEFFICIENT OF A PYROLITICALLY DEPOSITED SILICON NITRIDE FILM
[J].
TOKUYAMA, T
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TOKUYAMA, T
;
FUJII, Y
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FUJII, Y
;
SUGITA, Y
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SUGITA, Y
;
KISHINO, S
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KISHINO, S
.
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1967,
6
(10)
:1252
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1962, CORNING GLASS WORKS, P26
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