STRESS AND THERMAL-EXPANSION COEFFICIENT OF CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITED GLASS FILMS

被引：66

作者：

SUNAMI, H

ITOH, Y

SATO, K

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1970年 / 41卷 / 13期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1658622

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

收藏

页码：5115 / &

相关论文

共 12 条

[11] THERMAL EXPANSION COEFFICIENT OF A PYROLITICALLY DEPOSITED SILICON NITRIDE FILM [J].

TOKUYAMA, T ;

FUJII, Y ;

SUGITA, Y ;

KISHINO, S .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1967, 6 (10) :1252-&

[12]

1962, CORNING GLASS WORKS, P26