MULTI-WAFER GROWTH SYSTEM FOR LOW-PRESSURE SILICON EPITAXY

被引：11

作者：

OGIRIMA, M

SAIDA, H

SUZUKI, M

MAKI, M

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2131316

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1879 / 1881

页数：3

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共 4 条

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