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COMPUTED RESULTS FOR THE DEPOSITION RATES AND TRANSPORT PHENOMENA FOR AN MOCVD SYSTEM WITH A CONICAL ROTATING SUBSTRATE
被引:12
作者
:
DILAWARI, AH
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
DILAWARI, AH
SZEKELY, J
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
SZEKELY, J
机构
:
来源
:
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
|
1989年
/ 97卷
/ 3-4期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0022-0248(89)90582-4
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
:
引用
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页码:777 / 791
页数:15
相关论文
共 22 条
[21]
HYDRODYNAMIC DESCRIPTION OF CVD PROCESSES
WAHL, G
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
BROWN BOVERI & CIE AG, CENT RES LAB, HEIDELBERG, GERMANY
BROWN BOVERI & CIE AG, CENT RES LAB, HEIDELBERG, GERMANY
WAHL, G
[J].
THIN SOLID FILMS,
1977,
40
(JAN)
: 13
-
26
[22]
WAHL G, 1984, 9TH P INT C CHEM VAP, P60
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共 22 条
[21]
HYDRODYNAMIC DESCRIPTION OF CVD PROCESSES
WAHL, G
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
BROWN BOVERI & CIE AG, CENT RES LAB, HEIDELBERG, GERMANY
BROWN BOVERI & CIE AG, CENT RES LAB, HEIDELBERG, GERMANY
WAHL, G
[J].
THIN SOLID FILMS,
1977,
40
(JAN)
: 13
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26
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WAHL G, 1984, 9TH P INT C CHEM VAP, P60
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