MAGNETRON DC REACTIVE SPUTTERING OF TITANIUM NITRIDE AND INDIUM-TIN OXIDE

被引：39

作者：

CLARKE, PJ ^{[1
]}

机构：

[1] SPUTTERED FILMS INC,SANTA BARBARA,CA 93103

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569106

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：141 / 142

页数：2

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共 4 条

[1] PERNY G, 1966, VIDE OCT, P106
[2] PETERS FG, 1963, 9TH T NAT VAC S, P184
[3] NODULAR GROWTH IN THICK-SPUTTERED METALLIC COATINGS
SPALVINS, T
BRAINARD, WA
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1974, 11 (06): : 1186 - 1192
[4] INFLUENCE OF SUBSTRATE TEMPERATURE AND DEPOSITION RATE ON STRUCTURE OF THICK SPUTTERED CU COATINGS
THORNTON, JA
[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (04): : 830 - 835