MEASUREMENT AND IDENTIFICATION OF DISTORTION, ALIGNMENT, AND MASK ERRORS IN IC PROCESSING

被引：6

作者：

NICHOLAS, KH

STEMP, IJ

BROCKMAN, HE

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2127467

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：609 / 614

页数：6

共 8 条

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