磁控溅射方法以及磁控溅射装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610664192.5

申请日：

2016-08-12

公开(公告)号：

CN107723673A

公开(公告)日：

2018-02-23

发明(设计)人：

姚艳双张鹤南董博宇郭冰亮张军武学伟徐宝岗崔亚欣马怀超刘绍辉王军

申请人：

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442

代理人：

马佑平;杨国权

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-23	公开	公开
2018-03-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20160812

共 50 条

[1]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

徐范植 ;

高建峰 ;

丁云凌 ;

刘卫兵 .

中国专利 :CN114657522A ,2022-06-24

[2]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

丁冬 ;

李素华 ;

王鹏 .

中国专利 :CN109576663A ,2019-04-05

[3]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

李新连 ;

肖平 ;

赵志国 ;

赵东明 ;

秦校军 ;

王森 .

中国专利 :CN117604474A ,2024-02-27

[4]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

后藤哲也 .

中国专利 :CN104114742A ,2014-10-22

[5]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

大见忠弘 ;

后藤哲也 ;

关伸彰 ;

川上聪 ;

松冈孝明 .

中国专利 :CN102084023B ,2011-06-01

[6]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

王康 ;

邓慧 ;

卢胜杰 ;

张传彪 .

中国专利 :CN114107919A ,2022-03-01

[7]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

宫下哲也 ;

中村贯人 ;

菊池祐介 .

中国专利 :CN114381700A ,2022-04-22

[8]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

袁广才 .

中国专利 :CN105112873A ,2015-12-02

[9]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

水野茂 ;

户岛宏至 ;

五味淳 ;

宫下哲也 ;

波多野达夫 ;

水泽宁 .

中国专利 :CN103031529A ,2013-04-10

[10]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

陈长平 ;

佘鹏程 ;

胡凡 ;

陈庆广 ;

毛朝斌 ;

张赛 .

中国专利 :CN105543792B ,2016-05-04

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