磁控溅射装置和磁控溅射方法

被引：0

申请号：

CN202111126707.3

申请日：

2021-09-26

公开(公告)号：

CN114381700A

公开(公告)日：

2022-04-22

发明(设计)人：

宫下哲也中村贯人菊池祐介

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;徐飞跃

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-22	公开	公开
2022-05-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20210926

共 50 条

[1]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

宫下哲也 ;

中村贯人 ;

菊池祐介 .

日本专利 :CN114381700B ,2024-06-14

[2]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

水野茂 ;

户岛宏至 ;

五味淳 ;

宫下哲也 ;

波多野达夫 ;

水泽宁 .

中国专利 :CN103031529A ,2013-04-10

[3]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

赤松泰彦 ;

中村久三 ;

小林大士 ;

清田淳也 ;

汤川富之 ;

武井应树 ;

大石祐一 ;

新井真 ;

石桥晓 .

中国专利 :CN101978094A ,2011-02-16

[4]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

丁冬 ;

李素华 ;

王鹏 .

中国专利 :CN109576663A ,2019-04-05

[5]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

大见忠弘 ;

后藤哲也 ;

关伸彰 ;

川上聪 ;

松冈孝明 .

中国专利 :CN102084023B ,2011-06-01

[6]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

王康 ;

邓慧 ;

卢胜杰 ;

张传彪 .

中国专利 :CN114107919A ,2022-03-01

[7]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

姚艳双 ;

张鹤南 ;

董博宇 ;

郭冰亮 ;

张军 ;

武学伟 ;

徐宝岗 ;

崔亚欣 ;

马怀超 ;

刘绍辉 ;

王军 .

中国专利 :CN107723673A ,2018-02-23

[8]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

袁广才 .

中国专利 :CN105112873A ,2015-12-02

[9]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

徐范植 ;

高建峰 ;

丁云凌 ;

刘卫兵 .

中国专利 :CN114657522A ,2022-06-24

[10]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

陈长平 ;

佘鹏程 ;

胡凡 ;

陈庆广 ;

毛朝斌 ;

张赛 .

中国专利 :CN105543792B ,2016-05-04

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