磁控溅射装置以及磁控溅射方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910104467.3

申请日：

2019-02-01

公开(公告)号：

CN109576663A

公开(公告)日：

2019-04-05

发明(设计)人：

丁冬李素华王鹏

申请人：

申请人地址：

065500 河北省廊坊市固安县新兴产业示范区

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

唐清凯

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20190201
2022-04-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/35 申请公布日:20190405
2019-04-05	公开	公开

共 50 条

[1]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

大见忠弘 ;

后藤哲也 ;

关伸彰 ;

川上聪 ;

松冈孝明 .

中国专利 :CN102084023B ,2011-06-01

[2]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

姚艳双 ;

张鹤南 ;

董博宇 ;

郭冰亮 ;

张军 ;

武学伟 ;

徐宝岗 ;

崔亚欣 ;

马怀超 ;

刘绍辉 ;

王军 .

中国专利 :CN107723673A ,2018-02-23

[3]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

徐范植 ;

高建峰 ;

丁云凌 ;

刘卫兵 .

中国专利 :CN114657522A ,2022-06-24

[4]

磁控溅射方法以及磁控溅射装置 [P].

李新连 ;

肖平 ;

赵志国 ;

赵东明 ;

秦校军 ;

王森 .

中国专利 :CN117604474A ,2024-02-27

[5]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

孙亚楠 ;

拉海忠 ;

闫晓晖 .

中国专利 :CN117604466A ,2024-02-27

[6]

磁控溅射装置以及磁控溅射方法 [P].

后藤哲也 .

中国专利 :CN104114742A ,2014-10-22

[7]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

宫下哲也 ;

中村贯人 ;

菊池祐介 .

中国专利 :CN114381700A ,2022-04-22

[8]

磁控溅射装置及磁控溅射方法 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

袁广才 .

中国专利 :CN105112873A ,2015-12-02

[9]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

水野茂 ;

户岛宏至 ;

五味淳 ;

宫下哲也 ;

波多野达夫 ;

水泽宁 .

中国专利 :CN103031529A ,2013-04-10

[10]

磁控溅射装置和磁控溅射方法 [P].

宫下哲也 ;

中村贯人 ;

菊池祐介 .

日本专利 :CN114381700B ,2024-06-14

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