对准标记位置检测装置、蒸镀装置和电子器件的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110133111.X

申请日：

2018-07-31

公开(公告)号：

CN112962061A

公开(公告)日：

2021-06-15

发明(设计)人：

谷和宪长沼义人内田亘

申请人：

申请人地址：

日本新泻县

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1404 C23C1450 C23C1454 G01B1100

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

刘杨

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/24 申请日:20180731
2021-06-15	公开	公开

共 50 条

[1]

对准装置、蒸镀装置、电子器件的制造装置以及对准方法 [P].

姬路敏明 .

中国专利 :CN111326461A ,2020-06-23

[2]

蒸镀装置、电子器件的制造装置以及蒸镀方法 [P].

三村拓平 .

中国专利 :CN111321375A ,2020-06-23

[3]

电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组 [P].

池永知加雄 ;

井上功 ;

中村阳子 .

中国专利 :CN113764606A ,2021-12-07

[4]

蒸镀掩模组、电子器件的制造方法和电子器件 [P].

樋口拓也 ;

落合洋光 ;

冈宏树 .

中国专利 :CN111500979B ,2020-08-07

[5]

对准方法、使用对准方法的蒸镀方法及电子器件制造方法 [P].

小林康信 .

中国专利 :CN110408886A ,2019-11-05

[6]

电子器件、电子器件的制造方法和蒸镀掩模组 [P].

池永知加雄 ;

井上功 ;

中村阳子 .

日本专利 :CN113764606B ,2024-12-24

[7]

对准方法、使用对准方法的蒸镀方法及电子器件制造方法 [P].

小林康信 .

日本专利 :CN110408886B ,2025-03-28

[8]

位置检测装置、位置检测方法以及蒸镀装置 [P].

吉田雄一 ;

坂内雄也 ;

柳堀文嗣 .

中国专利 :CN109554662A ,2019-04-02

[9]

真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法 [P].

三泽启太 ;

后藤亮太 ;

风间良秋 ;

七五三木浩一 .

中国专利 :CN112011765A ,2020-12-01

[10]

真空蒸镀装置、蒸镀膜的制造方法和有机电子器件的制造方法 [P].

三泽启太 ;

后藤亮太 ;

风间良秋 ;

七五三木浩一 .

中国专利 :CN106256925A ,2016-12-28

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