一种旋转阴极磁控溅射镀膜单元

被引：0

申请号：

CN202220480163.4

申请日：

2022-03-07

公开(公告)号：

CN217127521U

公开(公告)日：

2022-08-05

发明(设计)人：

孙伟明眭凌杰吴景权伊伙根郭振浩

申请人：

申请人地址：

366000 福建省三明市永安市尼葛工业园北区1188号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

泉州市博一专利事务所(普通合伙) 35213

代理人：

方传榜;吕森裕

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-05	授权	授权

共 50 条

[1]

旋转阴极和真空磁控溅射镀膜设备 [P].

盛林 ;

高文波 .

中国专利 :CN209144248U ,2019-07-23

[2]

一种真空磁控溅射镀膜用的旋转阴极 [P].

郭爱云 ;

黄国兴 ;

孙桂红 ;

祝海生 ;

梁红 ;

黄乐 .

中国专利 :CN202865325U ,2013-04-10

[3]

一种磁棒组件、磁控溅射旋转阴极和磁控溅射镀膜设备 [P].

郭江涛 ;

游锦山 .

中国专利 :CN119530741B ,2025-04-22

[4]

一种磁棒组件、磁控溅射旋转阴极和磁控溅射镀膜设备 [P].

郭江涛 ;

游锦山 .

中国专利 :CN119530741A ,2025-02-28

[5]

磁控溅射镀膜阴极装置 [P].

白振中 ;

江少华 .

中国专利 :CN101812667A ,2010-08-25

[6]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[7]

一种真空磁控溅射镀膜用旋转阴极驱动装置 [P].

魏庆瑄 ;

李惠 .

中国专利 :CN201746585U ,2011-02-16

[8]

一种磁控溅射旋转阴极结构 [P].

胡超川 ;

傅强 ;

朱磊 ;

毛祖攀 .

中国专利 :CN221918205U ,2024-10-29

[9]

旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置 [P].

刘国利 ;

范振华 .

中国专利 :CN103409725A ,2013-11-27

[10]

一种磁控溅射镀膜用阴极 [P].

李震 .

中国专利 :CN204281852U ,2015-04-22

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