一种磁控溅射旋转阴极结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420568697.1

申请日：

2024-03-22

公开(公告)号：

CN221918205U

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

胡超川傅强朱磊毛祖攀

申请人：

安徽立光电子材料股份有限公司

申请人地址：

239299 安徽省滁州市来安县经济开发区B区（滁天路南侧）

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/34

代理机构：

南京众联专利代理有限公司 32206

代理人：

郭君兰

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省安庆市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-29	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射旋转阴极结构 [P].

胡超川 ;

傅强 ;

朱磊 ;

毛祖攀 .

中国专利 :CN118166325A ,2024-06-11

[2]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[3]

一种旋转阴极磁控溅射镀膜单元 [P].

孙伟明 ;

眭凌杰 ;

吴景权 ;

伊伙根 ;

郭振浩 .

中国专利 :CN217127521U ,2022-08-05

[4]

一种真空磁控溅射旋转阴极 [P].

谢建军 ;

高文波 .

中国专利 :CN203222615U ,2013-10-02

[5]

磁控溅射系统的旋转阴极 [P].

D.T.克劳利 ;

M.L.尼尔 .

中国专利 :CN103917690A ,2014-07-09

[6]

一种磁控溅射系统的旋转阴极 [P].

匡国庆 .

中国专利 :CN210560701U ,2020-05-19

[7]

旋转阴极和真空磁控溅射镀膜设备 [P].

盛林 ;

高文波 .

中国专利 :CN209144248U ,2019-07-23

[8]

一种旋转磁控溅射阴极的导电结构 [P].

王伟 ;

卢成 .

中国专利 :CN211420300U ,2020-09-04

[9]

一种磁控溅射用旋转阴极 [P].

张君春 ;

孙法鋆 ;

卞勇 ;

方赟 .

中国专利 :CN212335275U ,2021-01-12

[10]

真空磁控溅射用旋转阴极靶 [P].

肖世文 ;

黄建威 ;

肖盛荣 .

中国专利 :CN203320120U ,2013-12-04

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