真空磁控溅射用旋转阴极靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201320302774.0

申请日：

2013-05-29

公开(公告)号：

CN203320120U

公开(公告)日：

2013-12-04

发明(设计)人：

肖世文黄建威肖盛荣

申请人：

申请人地址：

510880 广东省广州市花都区花山镇华侨工业园

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205

代理人：

谭英强

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-04	授权	授权

共 50 条

[1]

旋转阴极和真空磁控溅射镀膜设备 [P].

盛林 ;

高文波 .

中国专利 :CN209144248U ,2019-07-23

[2]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[3]

一种真空磁控溅射旋转阴极 [P].

谢建军 ;

高文波 .

中国专利 :CN203222615U ,2013-10-02

[4]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[5]

真空磁控溅射的旋转靶装置 [P].

廖荣新 ;

黄进高 ;

禤瑞彬 .

中国专利 :CN202181345U ,2012-04-04

[6]

旋转式多靶材磁控溅射阴极 [P].

李伟 .

中国专利 :CN214088645U ,2021-08-31

[7]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[8]

磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P].

陈诚 ;

邵帅 ;

刘西宁 .

中国专利 :CN203080058U ,2013-07-24

[9]

旋转异形靶阴极机构及磁控溅射镀膜装置 [P].

刘国利 ;

范振华 .

中国专利 :CN103409725A ,2013-11-27

[10]

一种真空磁控溅射镀膜用的旋转阴极 [P].

郭爱云 ;

黄国兴 ;

孙桂红 ;

祝海生 ;

梁红 ;

黄乐 .

中国专利 :CN202865325U ,2013-04-10

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