磁控溅射旋转靶材

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201420677388.4
申请日
2014-11-13
公开(公告)号
CN204224696U
公开(公告)日
2015-03-25
发明(设计)人
黄勇彪 林文宝
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市宝安区西乡街道固戍航城大道广豪锋科技园D栋九楼南
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314
代理人
林俭良
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
旋转靶材及磁控溅射装置 [P]. 
任丹丹 ;
朱成顺 ;
蒋雷 .
中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06
[2]
绑定式磁控溅射旋转靶材 [P]. 
徐从康 .
中国专利 :CN205473965U ,2016-08-17
[3]
冷绑定式磁控溅射旋转靶材 [P]. 
周昭宇 ;
周志宏 .
中国专利 :CN214881801U ,2021-11-26
[4]
磁控溅射旋转靶 [P]. 
肖世文 .
中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30
[5]
一种磁控溅射旋转靶材 [P]. 
黄信二 .
中国专利 :CN114737160A ,2022-07-12
[6]
磁控溅射旋转靶材的绑定方法 [P]. 
杨晔 .
中国专利 :CN110218983A ,2019-09-10
[7]
磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置 [P]. 
李爽 ;
沈晓磊 ;
许磊 .
中国专利 :CN204714888U ,2015-10-21
[8]
绑定式磁控溅射旋转靶材及其制备方法 [P]. 
徐从康 .
中国专利 :CN105624627A ,2016-06-01
[9]
旋转靶柱型磁控溅射器 [P]. 
王德苗 ;
任高潮 .
中国专利 :CN2301452Y ,1998-12-23
[10]
一种磁控溅射旋转靶 [P]. 
刘佩杰 .
中国专利 :CN215887211U ,2022-02-22