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一种磁控溅射旋转靶
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121445842.X
申请日：
2021-06-28
公开(公告)号：
CN215887211U
公开(公告)日：
2022-02-22
发明(设计)人：
刘佩杰
申请人：
申请人地址：
518000 广东省深圳市光明新区公明街道塘尾村南埔山粤宝公司A区5号
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
C23C1454
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-02-22 | 授权 | 授权 |