一种旋转靶及磁控溅射装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610726371.7

申请日：

2016-08-25

公开(公告)号：

CN106319465A

公开(公告)日：

2017-01-11

发明(设计)人：

张斌詹裕程孙雪菲周婷婷舒适王新星

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

申健

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-11-09	授权	授权
2017-01-11	公开	公开
2017-02-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101702017945 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2016107263717 申请日:20160825

共 50 条

[1]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[2]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

[3]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

刘佩杰 .

中国专利 :CN215887211U ,2022-02-22

[4]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

宋光耀 ;

李毅 ;

刘志斌 ;

翟宇宁 .

中国专利 :CN202595261U ,2012-12-12

[5]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

江阳 ;

张爱兰 .

中国专利 :CN115896725B ,2024-08-16

[6]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[7]

一种磁控溅射旋转靶材 [P].

黄信二 .

中国专利 :CN114737160A ,2022-07-12

[8]

一种靶材、磁控溅射装置及溅射方法、溅射薄膜 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

王庆贺 ;

闫梁臣 .

中国专利 :CN109161863A ,2019-01-08

[9]

一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法 [P].

刘若玙 ;

陈为群 ;

高惠 .

中国专利 :CN118854241B ,2025-08-12

[10]

一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法 [P].

刘若玙 ;

陈为群 ;

高惠 .

中国专利 :CN118854241A ,2024-10-29

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