一种磁控溅射旋转靶材

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申请号
CN202110018161.3
申请日
2021-01-07
公开(公告)号
CN114737160A
公开(公告)日
2022-07-12
发明(设计)人
黄信二
申请人
申请人地址
341000 江西省赣州市经济技术开发区香港工业园北区标准厂房6栋
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
南昌金轩知识产权代理有限公司 36129
代理人
文珊
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
磁控溅射旋转靶材 [P]. 
黄勇彪 ;
林文宝 .
中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25
[2]
旋转靶材及磁控溅射装置 [P]. 
任丹丹 ;
朱成顺 ;
蒋雷 .
中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06
[3]
绑定式磁控溅射旋转靶材 [P]. 
徐从康 .
中国专利 :CN205473965U ,2016-08-17
[4]
冷绑定式磁控溅射旋转靶材 [P]. 
周昭宇 ;
周志宏 .
中国专利 :CN214881801U ,2021-11-26
[5]
磁控溅射旋转靶材的绑定方法 [P]. 
杨晔 .
中国专利 :CN110218983A ,2019-09-10
[6]
磁控溅射旋转靶 [P]. 
肖世文 .
中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30
[7]
一种磁控溅射旋转靶 [P]. 
刘佩杰 .
中国专利 :CN215887211U ,2022-02-22
[8]
一种磁控溅射旋转靶 [P]. 
宋光耀 ;
李毅 ;
刘志斌 ;
翟宇宁 .
中国专利 :CN202595261U ,2012-12-12
[9]
一种磁控溅射旋转靶 [P]. 
江阳 ;
张爱兰 .
中国专利 :CN115896725B ,2024-08-16
[10]
一种辅助更换磁控溅射旋转靶材的装置 [P]. 
易立 ;
张朝晖 ;
张军杰 ;
魏玉飞 .
中国专利 :CN110846631B ,2020-02-28