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一种磁控溅射旋转靶
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201220208554.7
申请日
:
2012-05-10
公开(公告)号
:
CN202595261U
公开(公告)日
:
2012-12-12
发明(设计)人
:
宋光耀
李毅
刘志斌
翟宇宁
申请人
:
申请人地址
:
518029 广东省深圳市福田区深南大道与金田路交界西南路深圳国际交易广场2112-2116室
IPC主分类号
:
C23C1435
IPC分类号
:
代理机构
:
深圳市毅颖专利商标事务所 44233
代理人
:
张艺影;李奕晖
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-15
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20120510 授权公告日:20121212 终止日期:20210510
2012-12-12
授权
授权
共 50 条
[1]
磁控溅射旋转靶
[P].
肖世文
论文数:
0
引用数:
0
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0
肖世文
.
中国专利
:CN203741407U
,2014-07-30
[2]
一种磁控溅射旋转靶
[P].
刘佩杰
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刘佩杰
.
中国专利
:CN215887211U
,2022-02-22
[3]
一种磁控溅射旋转靶
[P].
江阳
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机构:
南通成泰磁材科技有限公司
南通成泰磁材科技有限公司
江阳
;
张爱兰
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机构:
南通成泰磁材科技有限公司
南通成泰磁材科技有限公司
张爱兰
.
中国专利
:CN115896725B
,2024-08-16
[4]
磁控溅射旋转靶材
[P].
黄勇彪
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黄勇彪
;
林文宝
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林文宝
.
中国专利
:CN204224696U
,2015-03-25
[5]
磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备
[P].
罗金豪
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机构:
苏州迈为科技股份有限公司
苏州迈为科技股份有限公司
罗金豪
;
解传佳
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苏州迈为科技股份有限公司
苏州迈为科技股份有限公司
解传佳
;
潘俊杰
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机构:
苏州迈为科技股份有限公司
苏州迈为科技股份有限公司
潘俊杰
;
赵贤贵
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机构:
苏州迈为科技股份有限公司
苏州迈为科技股份有限公司
赵贤贵
.
中国专利
:CN222119368U
,2024-12-06
[6]
一种磁控溅射旋转靶材
[P].
黄信二
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黄信二
.
中国专利
:CN114737160A
,2022-07-12
[7]
一种旋转镜像靶磁控溅射设备
[P].
刘晓萌
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刘晓萌
.
中国专利
:CN113403595A
,2021-09-17
[8]
一种旋转靶及磁控溅射装置
[P].
张斌
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张斌
;
詹裕程
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詹裕程
;
孙雪菲
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孙雪菲
;
周婷婷
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周婷婷
;
舒适
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舒适
;
王新星
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王新星
.
中国专利
:CN106319465A
,2017-01-11
[9]
一种磁控溅射镀膜机的旋转靶
[P].
宋宇
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宋宇
;
江维
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江维
;
熊建
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熊建
;
全强
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全强
.
中国专利
:CN207294879U
,2018-05-01
[10]
一种磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶
[P].
江维
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0
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0
江维
.
中国专利
:CN204982042U
,2016-01-20
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