一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411345316.4

申请日：

2024-09-26

公开(公告)号：

CN118854241A

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

刘若玙陈为群高惠

申请人：

江苏皓兮数智能源技术开发有限公司

申请人地址：

221007 江苏省徐州市鼓楼区牌楼街道中山北路300号君盛广场3号楼1-1621

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/54 H01J37/34

代理机构：

徐州市三联专利事务所 32220

代理人：

张斌

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20240926
2025-08-12	授权	授权
2024-10-29	公开	公开

共 50 条

[1]

一种旋转靶磁控溅射装置及控制方法 [P].

刘若玙 ;

陈为群 ;

高惠 .

中国专利 :CN118854241B ,2025-08-12

[2]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[3]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

[4]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[5]

一种旋转靶及磁控溅射装置 [P].

张斌 ;

詹裕程 ;

孙雪菲 ;

周婷婷 ;

舒适 ;

王新星 .

中国专利 :CN106319465A ,2017-01-11

[6]

一种磁控溅射旋转靶材 [P].

黄信二 .

中国专利 :CN114737160A ,2022-07-12

[7]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

刘佩杰 .

中国专利 :CN215887211U ,2022-02-22

[8]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

宋光耀 ;

李毅 ;

刘志斌 ;

翟宇宁 .

中国专利 :CN202595261U ,2012-12-12

[9]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

江阳 ;

张爱兰 .

中国专利 :CN115896725B ,2024-08-16

[10]

一种靶材、磁控溅射装置及溅射方法、溅射薄膜 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

王庆贺 ;

闫梁臣 .

中国专利 :CN109161863A ,2019-01-08

← 1 2 3 4 5 →