磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520348565.9

申请日：

2015-05-27

公开(公告)号：

CN204714888U

公开(公告)日：

2015-10-21

发明(设计)人：

李爽沈晓磊许磊

申请人：

申请人地址：

200444 上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

上海申蒙商标专利代理有限公司 31214

代理人：

徐小蓉

法律状态：

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国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-10-21	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[2]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

[3]

绑定式磁控溅射旋转靶材 [P].

徐从康 .

中国专利 :CN205473965U ,2016-08-17

[4]

冷绑定式磁控溅射旋转靶材 [P].

周昭宇 ;

周志宏 .

中国专利 :CN214881801U ,2021-11-26

[5]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[6]

磁控溅射旋转靶材的绑定方法 [P].

杨晔 .

中国专利 :CN110218983A ,2019-09-10

[7]

一种磁控溅射旋转靶材 [P].

黄信二 .

中国专利 :CN114737160A ,2022-07-12

[8]

对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置 [P].

梁伟 ;

陈培专 ;

李仁龙 ;

魏昌华 ;

高翔 .

中国专利 :CN210176943U ,2020-03-24

[9]

真空磁控溅射的旋转靶装置 [P].

廖荣新 ;

黄进高 ;

禤瑞彬 .

中国专利 :CN202181345U ,2012-04-04

[10]

一种辅助更换磁控溅射旋转靶材的装置 [P].

易立 ;

张朝晖 ;

张军杰 ;

魏玉飞 .

中国专利 :CN110846631B ,2020-02-28

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