真空磁控溅射的旋转靶装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120211162.1

申请日：

2011-06-20

公开(公告)号：

CN202181345U

公开(公告)日：

2012-04-04

发明(设计)人：

廖荣新黄进高禤瑞彬

申请人：

申请人地址：

526060 广东省肇庆市端州区肇庆大道东岗工业区前沿真空设备有限公司

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-06	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20110620 授权公告日:20120404
2012-04-04	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[2]

真空磁控溅射用旋转阴极靶 [P].

肖世文 ;

黄建威 ;

肖盛荣 .

中国专利 :CN203320120U ,2013-12-04

[3]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[4]

真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 [P].

甘国工 .

中国专利 :CN102108489A ,2011-06-29

[5]

真空镀膜磁控溅射磁流体密封旋转靶 [P].

甘国工 .

中国专利 :CN201614407U ,2010-10-27

[6]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

[7]

磁控溅射旋转靶材的绑定方法 [P].

杨晔 .

中国专利 :CN110218983A ,2019-09-10

[8]

旋转靶柱型磁控溅射器 [P].

王德苗 ;

任高潮 .

中国专利 :CN2301452Y ,1998-12-23

[9]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

刘佩杰 .

中国专利 :CN215887211U ,2022-02-22

[10]

一种磁控溅射旋转靶 [P].

宋光耀 ;

李毅 ;

刘志斌 ;

翟宇宁 .

中国专利 :CN202595261U ,2012-12-12

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