一种磁控溅射用旋转阴极

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202020751365.9

申请日：

2020-05-08

公开(公告)号：

CN212335275U

公开(公告)日：

2021-01-12

发明(设计)人：

张君春孙法鋆卞勇方赟

申请人：

申请人地址：

210000 江苏省南京市江宁区陶吴工业园乐园路5号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

南京常青藤知识产权代理有限公司 32286

代理人：

金迪

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-12	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[2]

磁控溅射用的旋转阴极磁棒 [P].

来华杭 ;

俞峰 ;

刘杰 ;

施成亮 ;

江嘉 ;

周海龙 .

中国专利 :CN111621760A ,2020-09-04

[3]

一种磁控溅射旋转阴极结构 [P].

胡超川 ;

傅强 ;

朱磊 ;

毛祖攀 .

中国专利 :CN221918205U ,2024-10-29

[4]

一种磁控溅射旋转阴极结构 [P].

胡超川 ;

傅强 ;

朱磊 ;

毛祖攀 .

中国专利 :CN118166325A ,2024-06-11

[5]

一种真空磁控溅射旋转阴极 [P].

谢建军 ;

高文波 .

中国专利 :CN203222615U ,2013-10-02

[6]

旋转阴极磁场磁控溅射装置 [P].

张晓军 ;

龚文志 .

中国专利 :CN308485241S ,2024-02-23

[7]

磁控溅射旋转阴极支撑端头 [P].

陈诚 ;

张少波 ;

刘月豹 ;

钟汝梅 ;

任丹 ;

孔德辉 .

中国专利 :CN205241784U ,2016-05-18

[8]

磁控溅射旋转阴极支撑端头 [P].

陈诚 ;

张少波 ;

刘月豹 ;

钟汝梅 ;

任丹 ;

孔德辉 .

中国专利 :CN105401126A ,2016-03-16

[9]

磁控溅射系统的旋转阴极 [P].

D.T.克劳利 ;

M.L.尼尔 .

中国专利 :CN103917690A ,2014-07-09

[10]

磁控溅射装置用的旋转阴极单元 [P].

斋藤修司 .

中国专利 :CN107614743B ,2018-01-19

← 1 2 3 4 5 →