磁控溅射旋转阴极支撑端头

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201521076527.9

申请日：

2015-12-17

公开(公告)号：

CN205241784U

公开(公告)日：

2016-05-18

发明(设计)人：

陈诚张少波刘月豹钟汝梅任丹孔德辉

申请人：

申请人地址：

233010 安徽省蚌埠市高新区黄山大道北侧

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102

代理人：

王琪

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-18	授权	授权
2018-01-02	避免重复授权放弃专利权	避免重复授予专利权 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20151217 授权公告日:20160518 放弃生效日:20180102

共 50 条

[1]

磁控溅射旋转阴极支撑端头 [P].

陈诚 ;

张少波 ;

刘月豹 ;

钟汝梅 ;

任丹 ;

孔德辉 .

中国专利 :CN105401126A ,2016-03-16

[2]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[3]

磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头 [P].

刘杰 ;

来华杭 ;

施成亮 ;

周海龙 ;

俞峰 .

中国专利 :CN211814636U ,2020-10-30

[4]

旋转阴极磁场磁控溅射装置 [P].

张晓军 ;

龚文志 .

中国专利 :CN308485241S ,2024-02-23

[5]

磁控溅射系统的旋转阴极 [P].

D.T.克劳利 ;

M.L.尼尔 .

中国专利 :CN103917690A ,2014-07-09

[6]

一种磁控溅射设备、旋转阴极和端头组件 [P].

郭江涛 ;

刘远畅 .

中国专利 :CN119530742B ,2025-05-30

[7]

一种磁控溅射设备、旋转阴极和端头组件 [P].

郭江涛 ;

刘远畅 .

中国专利 :CN119530742A ,2025-02-28

[8]

磁控溅射用的旋转阴极磁棒 [P].

来华杭 ;

俞峰 ;

刘杰 ;

施成亮 ;

江嘉 ;

周海龙 .

中国专利 :CN111621760A ,2020-09-04

[9]

一种磁控溅射旋转阴极结构 [P].

胡超川 ;

傅强 ;

朱磊 ;

毛祖攀 .

中国专利 :CN221918205U ,2024-10-29

[10]

旋转阴极和真空磁控溅射镀膜设备 [P].

盛林 ;

高文波 .

中国专利 :CN209144248U ,2019-07-23

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