一种磁控溅射设备、旋转阴极和端头组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510102698.6

申请日：

2025-01-22

公开(公告)号：

CN119530742B

公开(公告)日：

2025-05-30

发明(设计)人：

郭江涛刘远畅

申请人：

中科纳微真空科技（合肥）有限公司

申请人地址：

230088 安徽省合肥市高新区习友路1799号4幢1层和2层

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/34

代理机构：

合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184

代理人：

段晓微

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20250122
2025-02-28	公开	公开
2025-05-30	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射设备、旋转阴极和端头组件 [P].

郭江涛 ;

刘远畅 .

中国专利 :CN119530742A ,2025-02-28

[2]

磁控溅射旋转阴极支撑端头 [P].

陈诚 ;

张少波 ;

刘月豹 ;

钟汝梅 ;

任丹 ;

孔德辉 .

中国专利 :CN205241784U ,2016-05-18

[3]

磁控溅射旋转阴极支撑端头 [P].

陈诚 ;

张少波 ;

刘月豹 ;

钟汝梅 ;

任丹 ;

孔德辉 .

中国专利 :CN105401126A ,2016-03-16

[4]

一种磁棒组件、磁控溅射旋转阴极和磁控溅射镀膜设备 [P].

郭江涛 ;

游锦山 .

中国专利 :CN119530741B ,2025-04-22

[5]

一种磁棒组件、磁控溅射旋转阴极和磁控溅射镀膜设备 [P].

郭江涛 ;

游锦山 .

中国专利 :CN119530741A ,2025-02-28

[6]

磁控溅射真空镀膜设备旋转阴极端头 [P].

刘杰 ;

来华杭 ;

施成亮 ;

周海龙 ;

俞峰 .

中国专利 :CN211814636U ,2020-10-30

[7]

磁控溅射旋转阴极 [P].

李忠 .

中国专利 :CN213086094U ,2021-04-30

[8]

旋转阴极和真空磁控溅射镀膜设备 [P].

盛林 ;

高文波 .

中国专利 :CN209144248U ,2019-07-23

[9]

一种空间型磁场组件、环形旋转阴极和磁控溅射镀膜设备 [P].

刘博 ;

梅艳慧 ;

江湖 ;

叶显飞 ;

鲁启昌 ;

袁玉海 .

中国专利 :CN121204621A ,2025-12-26

[10]

一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 [P].

张永胜 ;

解传佳 ;

周振国 ;

武瑞军 ;

彭孝龙 ;

莫超超 .

中国专利 :CN115537747B ,2024-04-23

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