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旋转阴极磁场磁控溅射装置
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN202330506291.1
申请日
:
2023-08-09
公开(公告)号
:
CN308485241S
公开(公告)日
:
2024-02-23
发明(设计)人
:
张晓军
龚文志
申请人
:
深圳市矩阵多元科技有限公司
申请人地址
:
518131 广东省深圳市龙华区民治街道上芬社区龙屋工业区6号厂房101一、二楼
IPC主分类号
:
15-99
IPC分类号
:
代理机构
:
广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205
代理人
:
何锦明
法律状态
:
授权
国省代码
:
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-02-23
授权
授权
共 50 条
[1]
一种旋转阴极磁场磁控溅射装置
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
吴纯恩
;
论文数:
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机构:
安辉
;
陆艳君
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
陆艳君
;
论文数:
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机构:
孙丹
;
邓文宇
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
邓文宇
;
杨双
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
杨双
;
蒋立正
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
蒋立正
;
齐丽君
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
齐丽君
;
陈晓东
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机构:
沈阳工业大学
沈阳工业大学
陈晓东
;
论文数:
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机构:
侯强
;
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机构:
安跃军
.
中国专利
:CN116145091B
,2025-04-04
[2]
磁控溅射旋转阴极
[P].
李忠
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李忠
.
中国专利
:CN213086094U
,2021-04-30
[3]
磁控溅射旋转阴极支撑端头
[P].
陈诚
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陈诚
;
张少波
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张少波
;
刘月豹
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刘月豹
;
钟汝梅
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钟汝梅
;
任丹
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任丹
;
孔德辉
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孔德辉
.
中国专利
:CN205241784U
,2016-05-18
[4]
磁控溅射旋转阴极支撑端头
[P].
陈诚
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陈诚
;
张少波
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张少波
;
刘月豹
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刘月豹
;
钟汝梅
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钟汝梅
;
任丹
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任丹
;
孔德辉
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孔德辉
.
中国专利
:CN105401126A
,2016-03-16
[5]
磁控溅射系统的旋转阴极
[P].
D.T.克劳利
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0
D.T.克劳利
;
M.L.尼尔
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0
M.L.尼尔
.
中国专利
:CN103917690A
,2014-07-09
[6]
磁控溅射装置用的旋转阴极单元
[P].
斋藤修司
论文数:
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斋藤修司
.
中国专利
:CN107614743B
,2018-01-19
[7]
旋转圆柱磁控溅射阴极端头
[P].
黄毓彬
论文数:
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0
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黄毓彬
.
中国专利
:CN306542167S
,2021-05-14
[8]
磁控溅射用的旋转阴极磁棒
[P].
来华杭
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来华杭
;
俞峰
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俞峰
;
刘杰
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刘杰
;
施成亮
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施成亮
;
江嘉
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江嘉
;
周海龙
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周海龙
.
中国专利
:CN111621760A
,2020-09-04
[9]
磁控溅射镀膜阴极装置
[P].
白振中
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白振中
;
江少华
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0
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江少华
.
中国专利
:CN101812667A
,2010-08-25
[10]
一种磁控溅射旋转阴极结构
[P].
胡超川
论文数:
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机构:
安徽立光电子材料股份有限公司
安徽立光电子材料股份有限公司
胡超川
;
傅强
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机构:
安徽立光电子材料股份有限公司
安徽立光电子材料股份有限公司
傅强
;
朱磊
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机构:
安徽立光电子材料股份有限公司
安徽立光电子材料股份有限公司
朱磊
;
毛祖攀
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机构:
安徽立光电子材料股份有限公司
安徽立光电子材料股份有限公司
毛祖攀
.
中国专利
:CN221918205U
,2024-10-29
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