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旋转圆柱磁控溅射阴极端头
被引:0
专利类型
:
外观设计
申请号
:
CN202030706296.5
申请日
:
2020-11-20
公开(公告)号
:
CN306542167S
公开(公告)日
:
2021-05-14
发明(设计)人
:
黄毓彬
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市宝安区燕罗街道燕川社区燕山大道3号C栋3楼301
IPC主分类号
:
1509
IPC分类号
:
代理机构
:
北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638
代理人
:
陈文瑜
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-05-14
授权
授权
共 50 条
[1]
一种旋转圆柱磁控溅射阴极端头结构
[P].
黄毓彬
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄毓彬
.
中国专利
:CN213570713U
,2021-06-29
[2]
一种旋转圆柱磁控溅射阴极端头
[P].
黄毓彬
论文数:
0
引用数:
0
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0
黄毓彬
.
中国专利
:CN213895983U
,2021-08-06
[3]
圆柱磁控溅射阴极
[P].
王良源
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王良源
.
中国专利
:CN103114272B
,2013-05-22
[4]
半圆柱磁控溅射阴极
[P].
郭华聪
论文数:
0
引用数:
0
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0
郭华聪
.
中国专利
:CN2236500Y
,1996-10-02
[5]
内置旋转阴极端头
[P].
朱世元
论文数:
0
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0
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0
朱世元
;
闫乃明
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0
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0
闫乃明
.
中国专利
:CN305820783S
,2020-06-02
[6]
旋转圆柱磁控溅射靶
[P].
孙德恩
论文数:
0
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0
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0
孙德恩
.
中国专利
:CN101285171A
,2008-10-15
[7]
旋转阴极磁场磁控溅射装置
[P].
张晓军
论文数:
0
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0
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机构:
深圳市矩阵多元科技有限公司
深圳市矩阵多元科技有限公司
张晓军
;
龚文志
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
深圳市矩阵多元科技有限公司
深圳市矩阵多元科技有限公司
龚文志
.
中国专利
:CN308485241S
,2024-02-23
[8]
磁控溅射阴极系统
[P].
王三军
论文数:
0
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0
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0
王三军
.
中国专利
:CN107995932A
,2018-05-04
[9]
磁控溅射阴极系统
[P].
王三军
论文数:
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王三军
;
刘圣烈
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0
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刘圣烈
;
黄维邦
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黄维邦
;
余晓军
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0
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0
余晓军
.
中国专利
:CN110770364A
,2020-02-07
[10]
平面磁控溅射阴极
[P].
黄登聪
论文数:
0
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0
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0
黄登聪
;
彭立全
论文数:
0
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彭立全
.
中国专利
:CN103046009A
,2013-04-17
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