旋转圆柱磁控溅射阴极端头

被引:0
专利类型
外观设计
申请号
CN202030706296.5
申请日
2020-11-20
公开(公告)号
CN306542167S
公开(公告)日
2021-05-14
发明(设计)人
黄毓彬
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市宝安区燕罗街道燕川社区燕山大道3号C栋3楼301
IPC主分类号
1509
IPC分类号
代理机构
北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638
代理人
陈文瑜
法律状态
授权
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
一种旋转圆柱磁控溅射阴极端头结构 [P]. 
黄毓彬 .
中国专利 :CN213570713U ,2021-06-29
[2]
一种旋转圆柱磁控溅射阴极端头 [P]. 
黄毓彬 .
中国专利 :CN213895983U ,2021-08-06
[3]
圆柱磁控溅射阴极 [P]. 
王良源 .
中国专利 :CN103114272B ,2013-05-22
[4]
半圆柱磁控溅射阴极 [P]. 
郭华聪 .
中国专利 :CN2236500Y ,1996-10-02
[5]
内置旋转阴极端头 [P]. 
朱世元 ;
闫乃明 .
中国专利 :CN305820783S ,2020-06-02
[6]
旋转圆柱磁控溅射靶 [P]. 
孙德恩 .
中国专利 :CN101285171A ,2008-10-15
[7]
旋转阴极磁场磁控溅射装置 [P]. 
张晓军 ;
龚文志 .
中国专利 :CN308485241S ,2024-02-23
[8]
磁控溅射阴极系统 [P]. 
王三军 .
中国专利 :CN107995932A ,2018-05-04
[9]
磁控溅射阴极系统 [P]. 
王三军 ;
刘圣烈 ;
黄维邦 ;
余晓军 .
中国专利 :CN110770364A ,2020-02-07
[10]
平面磁控溅射阴极 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
中国专利 :CN103046009A ,2013-04-17