喷头组件以及基板处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202310948338.9
申请日
2023-07-31
公开(公告)号
CN117497449A
公开(公告)日
2024-02-02
发明(设计)人
张琼镐 尹炳浩 姜民旭
申请人
TES股份有限公司
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
代理机构
北京钲霖知识产权代理有限公司 11722
代理人
李英艳;玉昌峰
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
喷头组件以及基板处理装置 [P]. 
张琼镐 ;
尹炳浩 ;
姜民旭 .
韩国专利 :CN117497450A ,2024-02-02
[2]
喷头组件以及基板处理装置 [P]. 
金宰焕 ;
朴玩哉 ;
李城吉 ;
丘峻宅 .
韩国专利 :CN120236970A ,2025-07-01
[3]
喷头组件以及基板处理装置 [P]. 
金星渊 ;
金镐翼 ;
曹仁圭 .
韩国专利 :CN119340183A ,2025-01-21
[4]
喷头组件以及包括其的基板处理装置 [P]. 
金星渊 ;
金镐翼 ;
曹仁圭 ;
朴埈奭 .
韩国专利 :CN120231021A ,2025-07-01
[5]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
金新明 ;
金一 ;
李在勋 .
韩国专利 :CN118899241A ,2024-11-05
[6]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
藤长徹志 ;
井堀敦仁 ;
松本昌弘 ;
谷典明 ;
岩井治宪 .
中国专利 :CN106715751B ,2017-05-24
[7]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
根来世 ;
永井泰彦 ;
岩田敬次 .
中国专利 :CN104425325A ,2015-03-18
[8]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
杉原一男 .
中国专利 :CN107615456A ,2018-01-19
[9]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
根来世 ;
永井泰彦 ;
岩田敬次 ;
大须贺勤 ;
村元僚 .
中国专利 :CN104992911B ,2015-10-21
[10]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
杉冈真治 ;
岸田拓也 .
日本专利 :CN113169065B ,2025-02-11