共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
提高晶圆表面洁净度的晶圆清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311663940.4
申请日：
2023-12-06
公开(公告)号：
CN117637441A
公开(公告)日：
2024-03-01
发明(设计)人：
朱长林
彭芳草
曹一
张圆圆
陈益民
张吉
迟殿鑫
黄晓峰
申请人：
中国电子科技集团公司第四十四研究所
申请人地址：
400060 重庆市南岸区南坪花园路14号
IPC主分类号：
H01L21/02
IPC分类号：
B08B3/04
B08B3/08
代理机构：
重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221
代理人：
陈俊国
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-01 | 公开 | 公开 |
| 2024-03-19 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20231206 |